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以一客户的半导体涂层喷淋花洒工件为例,直径 332mm 的圆盘上密布近 2000 个 D0.3 小孔,精准测量各小孔直径与圆度,确保尺寸和形状符合工艺要求以避免喷淋涂层不均,是客户的核心诉求,而测量准确度与效率是关键所在。经过比较分析,O – INSPECT 凭借ZVP功能脱颖而出成为理想之选。
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在使用 O – INSPECT 测量时,ZVP 功能提供了两个关键设置参数,其设置路径明确便捷:
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Metrology-Trends.com
以一客户的半导体涂层喷淋花洒工件为例,直径 332mm 的圆盘上密布近 2000 个 D0.3 小孔,精准测量各小孔直径与圆度,确保尺寸和形状符合工艺要求以避免喷淋涂层不均,是客户的核心诉求,而测量准确度与效率是关键所在。经过比较分析,O – INSPECT 凭借ZVP功能脱颖而出成为理想之选。
在使用 O – INSPECT 测量时,ZVP 功能提供了两个关键设置参数,其设置路径明确便捷:
程序元素编辑-CMM参数-探测参数(以下简称为探测参数)
首先选取一个圆作为起始元素,设置好对应的测量策略;
按照一般的测量方法,程序里对应参数无设置,即探测参数和测量时间优化均不选。
首先选取一个圆作为起始元素,设置好对应的测量策略。
选择对应优化参数,探测参数选择VAST探测参数(即ZVP功能),测量时间优化选为 3-运行优化,减少显示,无默认报告。
为圆1设置元素阵列,为35*3。
将阵列后的圆移动到CAD显示框的中间,示例中目前一个视场下可看到4*3个圆。
选中圆1后,右键-更新照相机测量位置X和Y(从当前相机位置),输入4/3。
同样的,运行参数选择为探测参数(VAST探测模式)+测量时间优化(3-运行优化,减少显示,无默认报告)。
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